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回轉放氣爐 BTF-700C-III-R

1、該款設備由控制柜和加熱爐組成，控制柜為密封殼體，內(nèi)置電路板和氣路板，外部可通過觸摸屏及手閥操控電路和氣路

這是一款智能型大口徑高真空退火爐

BTF-700C-VT-50是一款單溫區(qū)立式攪拌爐設備

這是一款智能升降鐘罩爐

（1）該款設備是小型浮動催化CVD系統(tǒng)，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下進行實驗；設備配有雙向推拉注射泵、氧分析儀、防爆控制柜、收集罐、密封腔室等組件

這是一款定制箱式爐設備

額定功率16

這是一款立式粉體納米管生長設備

滑軌進料系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、組合型收集系統(tǒng)、預熱及真空系統(tǒng)、工控及操作系統(tǒng)

1、設備配備真空系統(tǒng)、手搖升降機構、觸摸屏控制系統(tǒng)、氣路組件、真空系統(tǒng)、防護組件等

此款設備將實驗級別的升華機右端料端均對接手套箱，手套箱可內(nèi)襯四氟或噴涂特氟能起到防腐作用，半導體材料升華儀根據(jù)材料升華溫度、分子量的差異，對于材料進行提純，參數(shù)...

本款設備專用于金屬有機物等低升華點腐蝕性材料的升華提純

此款設備簡易分體式結構，能將升華體置于手套箱內(nèi)部，控制部分及真空部分置于手套箱外，操作簡易

該款設備是雙溫區(qū)立式管式爐（1400℃+1700℃），溫度可以達1700度，采用雙層殼體結構，使得殼體表面溫度＜65℃，高純度氧化鋁纖維作為爐膛保溫材料，主要應...

新款智能型等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng) PECVD-500A

設備特點　　該設備為三溫區(qū)立式加熱爐，溫度為1200℃，加熱區(qū)域300+300+300.加熱爐管為高純石英管，兩端配有水冷法蘭，爐管及法蘭固定在擺動機構上，擺動...

一、主要特點：該設備為我司研發(fā)用于材料連續(xù)生長的專用設備

技術參數(shù)：爐管尺寸：501400mm加熱元件：電阻絲加熱區(qū)長度：440+440mm恒溫區(qū)長度：400mm工作溫度：1100℃溫度：1200℃控溫方式：模糊PID...

1400℃智能型真空高溫管式爐BTF-1400C-A80mm設備特點：廣泛用于真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境